厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox高温超导薄膜

低温物理学报 , 2003, 25(z2): 551-555. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.z2.050

厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox高温超导薄膜

路荣涛 ^1, , 方兰 ^2, , 何明 ^3, , 赵新杰 ^4, , 马永昌 ^5, , 周铁戈 ^6, , 贾颖新 ^7, , 王建伟 ^8, , 路昕 ^9, , 阎少林 ^10,

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SUPERCONDUCTING Tl2Ba2CaCu2Ox THIN FILMS WITH THICKNESS LESS THAN 100nm

采用直流磁控溅射和在纯氩气中后热处理的方法,在LaAlO3(001)衬底上生长出厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox(Tl-2212)超导薄膜.在77K和零磁场下,100nm厚的薄膜具有105.3K的超导转变温度和2.33×106A/cm2的临界电流密度.这些值与较厚的Tl-2212薄膜的最好值相符.30nm厚的薄膜仍具有大于100K的转变温度,并具有光滑致密的表面形貌和外延生长的晶体结构.20nm厚的薄膜仍显示出正常态的金属行为和充分的超导转变.当厚度小于20nm时,薄膜的表面形貌和超导电性明显变坏,6nm厚的薄膜在15K低温下,未发现超导转变.从这个意义上看,20nm为我们所研究的Tl-2212薄膜的临界厚度.

参考文献

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