高温超导薄膜生长机理初探

低温物理学报 , 2005, 27(z1): 629-634. doi: 10.3969/j.issn.1000-3258.2005.z1.047

高温超导薄膜生长机理初探

赵新杰 ^1, , 季鲁 ^2, , 陈恩 ^3, , 左涛 ^4, , 周铁戈 ^5, , 陈思 ^6, , 阎少林 ^7, , 方兰 ^8, , 左旭 ^9,

1.南开大学电子科学系,天津,300071

2.南开大学电子科学系,天津,300071

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9.南开大学电子科学系,天津,300071

基金项目: 新材料领域项目(863-2002AA30614)

关键词： Tl-2212 , 高温超导薄膜 , 生长机理 , 热处理

GROWTH MECHANISM OF TL-2212 HIGH TEMPERATURE SUPERCONDUCTING FILMS

在3×10×0.5mm3的LaAlO3(001)基片上,利用直流磁控溅射生长一层厚度约为700nm的非晶态Tl2Ba2CaCu2Ox先驱薄膜.将先驱薄膜与热处理过的Tl2Ba2Ca2Cu3Oy块材(作为Tl源)一起在720～860℃温度下退火.为了研究薄膜的初期成核情况,退火时间一般为5分钟.利用XRD和完全抗磁性测试方法对样品的成相情况进行研究,结果显示,在薄膜生长的初期,较高的退火温度可以获得较大尺寸的初期生长核,但是退火温度达到860℃时,初期成核的晶粒尺寸变小.

参考文献

[1]	D W Face;R J Small;M S Warrington et al.[J].Physica C,2001,357:1488.
[2]	S.L. Yan;L. Fang;M. He .Tl_2Ba_2CaCu_2O_8 thin films on 2 in. LaAlO_3(0 0 1) substrates[J].Cryogenics,2005(1):41-44.
[3]	闵乃本.晶体生长的物理基础[M].北京:科学出版社
[4]	Wenfei Hu;Xinjie Zhao;Tiansheng Wang.Control of the growth mode of epitaxial c-axis YBa2Cu3O7-y thin films by vicinal(001) SrTiO3 substrates[J].Journal of Crystal Growth,2001:233.
[5]	阎少林,方兰,何明,路荣涛,马永昌,赵新杰,周铁戈,贾颖新.2英寸双面Tl-2212超导薄膜[J].低温物理学报,2003(z2):334-337.
[6]	张建中;杨传铮.晶体的射线衍射基础[M].南京:南京大学出版社:129.

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