化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟

机械工程材料, 2002, 26(10): 15-18. doi: 10.3969/j.issn.1000-3738.2002.10.006

化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟

关凯书 ^1, , 刘鹏虎 ^2, , 王志文 ^3, , 尹衍升 ^4,

1.山东大学材料液态结构及遗传教育部重点实验室,工程陶瓷省重点实验室,山东,济南,250061

2.辽宁工程技术大学材料工程系,辽宁,抚顺,123000

3.华东理工大学化工机械研究所,上海,200237

4.山东大学材料液态结构及遗传教育部重点实验室,工程陶瓷省重点实验室,山东,济南,250061

关键词：计算机模拟 , 化学镀镍磷合金 , Monte-Carlo方法

2D Computer Simulation of Atomic Deposition Process for Electroless NiP Coating

建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型,用Monte Carlo方法对原子沉积过程进行了二维(2D)计算机模拟.结果表明,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响.随着吸附原子迁移概率的增加(k减小)及最大迁移距离S的增大,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积,即原子填充空穴及孔隙的机会多,镀层孔隙率低.

参考文献

[1]	关凯书,梁安波,吕宝君,张美华,王志文.磷含量对镍磷化学镀层结构及表面形貌的影响[J].机械工程材料,2000(02):20-21,27.
[2]	Maurice Rigby;Smith E Brian.The forces between molecules[M].New york: Oxford University Press,1986:20.
[3]	Elliott S R.Physics of amorphous materials[M].New York: Longman Inc,1983:328.
[4]	戴道生;韩汝琪.非晶态物理[M].北京:电子工业出版社,1989
[5]	罗守福.化学镀镍[M].上海:上海交通大学出版社,1996:80-90.

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化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟

2D Computer Simulation of Atomic Deposition Process for Electroless NiP Coating

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