采用固体三氧化二硼,用热丝辅助化学气相沉积法在石墨衬底上沉积了掺硼金刚石涂层.用喇曼谱、扫描电镜及电导-温度关系研究了掺硼金刚石涂层的生长气压和掺硼浓度等主要工艺参数对涂层的形貌、结构及电学性能的影响和涂层的循环伏安特性.结果表明,石墨基金刚石涂层电极具有优良的电化学性能.
参考文献
[1] | 朱沛林;朱建中 .硼掺杂金刚石薄膜电极电化学特性的研究[J].功能材料与器件学报,1996,2(04):207-214. |
[2] | 廖克俊,王万录,张振刚,吴彬.热灯丝CVD金刚石膜硼掺杂效应研究[J].物理学报,1996(10):1771-1776. |
[3] | Kamo M;Yurimoto H .Synthesis of semiconductive diamond from gas phase[J].Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum Surfaces and Films,1988,6(03):1818-1819. |
[4] | 贾宇明;杨邦朝 .MPVCD合成P型金刚石薄膜的电导-温度机理[J].功能材料,1998,29(01):46-47. |
[5] | Fiegl B;Kuhnert R;Ben-Chorin M et al.Evidance for grain boundary hopping transport in polycrystalline diamond films[J].Applied Physics Letters,1994,65(03):371-373. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%