利用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英基片上沉积了非晶态ZrW2O8薄膜,对不同温度下热处理的薄膜进行了XRD分析;用扫描电镜观察了薄膜的表面形貌,用阻抗分析仪和分光光度计分别研究了薄膜的介电性能和透光性能.结果表明:非晶态薄膜在740℃热处理3 min可以制得具有较好负热膨胀特性的ZrW2O8薄膜,其热膨胀系数为-2.54×10-5 /℃;介电常数和介电损耗均随着频率的增加而减小;在可见光范围内薄膜的透光率达75%.
参考文献
| [1] | Mary T;A Vansjso;Vogt T .Negative thermal expansion from 0.3 to 1 050 Kelvin in ZrW2O8[J].Science,1996,272(05):90-92. |
| [2] | J. S. O. Evans;T. A. Mary;T. Vogt;M. A. Subramanian;A. W. Sleight .Negative Thermal Expansion in ZrW_2O_8 and HfW_2O_8[J].Chemistry of Materials,1996(12):2809-2823. |
| [3] | Evans J S O;Mary T A;Sleight A W .Negative thermal expansion in large molybdate and tungstate[J].Journal of Solid State Chemistry,1997,133:580-583. |
| [4] | 程晓农,孙秀娟,杨娟,徐桂芳.固相法合成负热膨胀性粉体ZrW2O8[J].江苏大学学报（自然科学版）,2005(04):350-353. |
| [5] | 严学华,程晓农,张美芬.不同处理条件对前驱体转变成ZrW2O8的影响[J].硅酸盐学报,2004(12):1530-1533. |
| [6] | 王聪,王天民,沈容,梁敬魁.新型负热膨胀氧化物材料的研究[J].物理,2001(12):772-777. |
| [7] | 郑昌琼;冉均国.新型无机材料[M].北京:科学出版社,2003:155-157. |
| [8] | 李林.薄膜科学研究进展[J].科技导报,1997(02):9-19. |
| [9] | Michael S S;Joseph T.Micro-machined negative thermal expansion thin film[A].Boston,Massachusetts,2003:1148-1151. |
| [10] | Xiao Zhaojuan;Cheng Xiaonong;Yan Xuehua .Effects of post-deposition annealing on ZrW2O8 thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering[J].Surface and Coatings Technology,2007,201:5560-5563. |
| [11] | 周俊彪;吴建生;杨于兴 .铝合金阳极氧化薄膜热膨胀性能测试分析[J].上海交通大学学报,1998,32(02):53-54. |
| [12] | 关振铎;张中太;焦金生.无机材料物理性能[M].北京:清华大学出版社,2002:287-334. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%