气压对磁控溅身硅钼薄膜结构及内应力的影响

金属世界, 2012, (4): 21-23. doi: 10.3969/j.issn.1000-6826.2012.04.009

气压对磁控溅身硅钼薄膜结构及内应力的影响

信绍广 ^1, , 张茂国 ^2, , 朱伟 ^3, , 刘延学 ^4, , 李宁 ^5,

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Effect of Air Pressure on the Microstructure and Stress Properties of Si/Mo Thin Films

参考文献

[1]	黄榕旭,蒋聚小,郑国祥,俞宏坤,任云珠,徐蓓蕾.VLSI中钛硅化物肖特基接触特性与退火条件[J].固体电子学研究与进展,2001(04):415-423.
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