采用ICP-AES法对Hf 263.871nm, 264.141nm, 277.336nm, 282.022nm等灵敏谱线的分析性能进行研究,对高温合金中基体及合金元素的干扰情况进行考察,选用282.022nm作为分析线,并测定了Ti对Hf的干扰校正系数,确定了采用基体匹配法和干扰系数校正法对高温合金中痕量铪进行直接测定.方法的实际测定下限为0.0005%, 测定精度RSD≤20%.
参考文献
| [1] | M Thompson;J N Walsh;符斌.ICP光谱分析指南[M].北京:冶金工业出版社,1991 |
| [2] | 孙观贵;张月霞 .[J].冶金分析,1982,3(06):343. |
| [3] | 李志波;郜竞学;刘莉 .[J].冶金分析,1995,15(04):17. |
| [4] | 童坚,吴辛友,李满芝,佟伶.锆铪的ICP-AES分析方法研究及应用[J].现代科学仪器,2000(04):62-63. |
| [5] | R K Winge;钱国贤;et al.电感耦合等离子体发射光谱图册[M].北京:中国光学会光谱学会,1986 |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%