利用全息相衬干涉显微术研究EDTA对KDP晶体生长习性的影响

1.山东大学物理与微电子学院,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

2.山东大学物理与微电子学院,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

3.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东大学晶体材料研究所,济南,250100

4.山东大学物理与微电子学院,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

5.山东大学物理与微电子学院,济南,250100;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

基金项目: 山东省自然科学基金(Y2001A06) 山东省科技攻关项目(012120105) 国家自然科学基金(10274043)

HPCIM Investigation of the Effect of EDTA Additives on Growth Habit of KDP

利用全息相衬干涉显微术(HPCIM)研究了EDTA对KDP晶体(100)柱面和(101)锥面生长习性的影响.通过界面边界层宽度的变化,可以直观地观测到在溶液中添加少量的EDTA后,促使KDP晶体沿柱面和锥面的生长,特别是对柱面的影响更为显著,并对此作了解释.最佳的EDTA浓度范围有待于进一步研究.

[1]	张克从;张乐惠.晶体生长科学与技术[M].北京:科学出版社,1997
[2]	Srinivasan K.;Ramasamy P.;Meera K. .A novel method to enhance metastable zone width for crystal growth from solution[J].Crystal Research and Technology: Journal of Experimental and Industrial Crystallography,2000(3):291-297.
[3]	于锡玲.研究晶体生长的全息相衬显微术[J].人工晶体,1987(02):165.
[4]	于锡玲;刘有臣;岳学锋;孙毅徐现刚 .高-低温溶液晶体生长溶质边界层的全息研究[J].中国科学A辑,1994,24(12):1327-1332.
[5]	Ponomarev G;Govorkov S;Ruderman W.Some Mechanisms of Defects Formation during Growth of KDP Group Crystals[J].Abstracts of ICCG'12 Israel Jerusalem,1998:76.
[6]	de Vries SA.;Huisman WJ.;Zwanenburg MJ.;Feidenhans'l R. Bennett SL.;Smilgies DM.;Stierle A.;De Yoreo JJ.;van Enckevort WJP. Bennema P.;Vlieg E.;Goedtkindt P. .X-ray diffraction studies of potassium dihydrogen phosphate (KDP) crystal surfaces[J].Journal of Crystal Growth,1999(1/2):202-214.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分