以乙醇为氧源生长ZnO薄膜中温度对光谱影响的研究

人工晶体学报, 2004, 33(2): 201-204. doi: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.02.017

以乙醇为氧源生长ZnO薄膜中温度对光谱影响的研究

李宪林 ^1, , 黄柏标 ^2, , 朱宝富 ^3, , 于永芹 ^4, , 尉吉勇 ^5, , 秦晓燕 ^6,

1.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

2.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

3.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

4.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

5.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

6.山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100

关键词：氧化锌 , 乙醇 , MOCVD , 温度 , 光谱

Study of Luminescence Dependence of ZnO Films on Growth Temperature by MOCVD Using Ethanol as MO Source

本文探索了以乙醇为氧源通过MOCVD方法生长ZnO薄膜的方法,着重研究了该实验中生长温度对薄膜发光光谱的影响.我们分别在350℃、370℃、380℃、400℃和420℃温度下生长了ZnO薄膜,并对其发光光谱进行了研究.结果表明适当地提高生长温度可以使近带边发光峰蓝移,但温度过高,使得峰位红移并展宽.在380℃的生长条件下得到了较好的光谱.370℃条件下还出现了474nm的发光峰,经退火后此峰消失.

参考文献

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Study of Luminescence Dependence of ZnO Films on Growth Temperature by MOCVD Using Ethanol as MO Source

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