微晶硅薄膜纵向不均匀性的Raman光谱和AFM研究

人工晶体学报, 2004, 33(6): 960-964. doi: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.018

微晶硅薄膜纵向不均匀性的Raman光谱和AFM研究

张晓丹 ^1, , 赵颖 ^2, , 朱锋 ^3, , 魏长春 ^4, , 吴春亚 ^5, , 高艳涛 ^6, , 孙建 ^7, , 侯国付 ^8, , 耿新华 ^9, , 熊绍珍 ^10,

1.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

2.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

3.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

4.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

5.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

6.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

7.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

8.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

9.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

10.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(G2000028202,G2000028203) 国家自然科学基金(2002DFG00051) 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002303261) 教育部科学技术研究项目(02167)

关键词：甚高频等离子体增强化学气相沉积 , 纵向均匀性 , 微晶硅薄膜

Study of Vertical Non-uniformity of Microcrystalline Silicon Thin Film Using Raman Spectra and AFM

本文研究了采用VHF-PECVD技术制备的微晶硅薄膜的纵向均匀性.喇曼测试结果显示:微晶硅薄膜存在着生长方向的结构不均匀,随厚度的增加,材料的晶化率逐渐变大;不同衬底其非晶孵化点是不一样的,对于同一种衬底,绒度大相应的晶化率就大,对应着孵化层的厚度小;AFM测试结果明显的给出:材料的结构随厚度增加发生变化.

参考文献

[1]	Meier J;Fluckiger R;Kepper H et al.Complete Microcrystalline p-I-n Solar Cell Crystalline or Amorphous Cell Behavior[J].Applied Physics Letters,1994,65:860-862.
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[3]	Shah A.;Meier J.;Vallat-Sauvain E.;Droz C.;Kroll U.;Wyrsch N. Guillet J.;Graf U. .Microcrystalline silicon and 'micromorph' tandem solar cells[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2002(0):179-187.
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[6]	张晓丹,赵颖,朱锋,侯国付,魏长春,熊文娟,孙健,任慧志,耿新华,熊绍珍.VHF-PECVD低温高速生长的硅薄膜材料特性研究[J].光电子·激光,2004(05):507-511.

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