本文论述了薄膜非晶/微晶叠层电池中NP隧穿结对电池性能的影响.在薄膜叠层电池中非晶顶电池的N层采用微晶硅,减小了电池的内部串联电阻影响.通过调整非晶硅顶电池N层和微晶硅底电池P层的厚度,降低NP隧穿结的影响,获得薄膜叠层电池效率11.73%(Voc=1.34V,Jsc=14.53mA/cm2,FF=60.27%),电池面积为0.253cm2.
参考文献
[1] | Rubinelli FA.;Schropp REI.;Rath JK. .Microcrystalline n-i-p tunnel junction in a-Si : H/a-Si : H tandem cells[J].Journal of Applied Physics,2001(7):4010-4018. |
[2] | Wronski C R;Collins R W;Jiao L et al.Stable a-Si:H Based Multijunction Solar Cells with Guidance from Real Time Optics-annual Report Phase I[R].,2000. |
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