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利用H-800透射电镜和Dmax/rb旋转阳极X-射线衍射仪分析了化学镀Co-Ni-P三元合金薄膜的组织结构,并采用原子力显微镜观察了镀层的表面生长形貌,探讨了其生长机理.结果表明,随镀液中[Co2+]/[Co2+]+[Ni2+]的增大,镀层中Co含量相应增加,Ni和P含量则下降.当Co-Ni-P镀层中P含量小于5.0%时,镀层为晶态,且晶粒随着镀层的增厚而长大.随Ni和P含量的增高,镀层向非晶结构过渡;当P含量大于6.5%时,镀层经很薄的微晶过渡区后很快以非晶结构生长;当镀层含磷量处于5.0%~6.5%过渡区时,初期镀层为120 nm左右的微晶,厚度增加时,晶粒尺寸迅速减小.

参考文献

[1] Matsubura H;Yamada A .Control of Magnetic Properties of Chemically Deposited Cobalt Nickel Phosphourus Films by Electrolysis[J].Journal of the Electrochemical Society,1994,141(09):2386.
[2] 渡边澈.非晶态电镀方法及应用[M].北京:北京航空航天大学出版社,1992
[3] Matsuda H;Takano O .On a Role of Zinc in Electrolessly Deposited CoNiZnP Films With High Coercivity[J].TIMF,1995,73(04):147.
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