用X-射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱分析仪(AES)、电子探针(EPMA)、差示扫描量热仪(DSC)和超微显微硬度计研究了低能氮离子束对非晶Ni-P合金镀层进行轰击的晶化规律,分析了在低能氮离子束作用下的非晶薄膜的组织结构和显微硬度.结果表明,用能量为3.0～4.0 keV,束流为80～200 mA的低能氮离子束对非晶Ni-P镀层进行轰击,镀层中可以晶化析出Ni和Ni3P相,并在Ni(111)晶面上出现择优取向.随低能氮离子束的轰击能量和束流的增大,Ni-P非晶镀层中Ni和Ni3P的晶化温度下降,束流对晶化温度的影响比加速电压的影响大.载能粒子对非晶薄膜的作用,产生氮离子注入效应,使表层的含氮量增加.随束流的增加,显微硬度增加减缓,而随氮离子束加速电压增加,显微硬度增加明显,在4 000 V加速电压的氮离子束轰击下,显微硬度达到HV2 131,比一般退火晶化方法所得到的显微硬度显著提高.
参考文献
| [1] | 庄瑞舫.化学镀镍磷合金技术探讨（Ⅰ）[J].材料保护,1997(09):41. |
| [2] | 闫洪.现代化学镀镍和复合镀新技术[M].北京:国防工业出版社,1999 |
| [3] | 傅永庆;朱晓东;徐可为 等.离子束辅助沉积技术及其进展[J].材料科学与工程,1996,55(03):22. |
| [4] | 曾鹏,胡社军,谢光荣,黄拿灿,吴起白.Mo对多弧离子镀（Ti,Mo）xN涂层组织与性能的影响[J].金属热处理,2000(08):7-9,12. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%