常压等离子体渗氮主要工艺参数分析

1.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

2.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

3.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

4.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

5.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

6.大连海事大学金属材料工艺所,辽宁,大连,116026

基金项目: 国家自然科学基金(60031001) 交通部通达计划项目(95-06-02-02)

Essential Parameters for Plasma Nitriding Technology under Atmospheric Pressure

利用介质阻挡放电,进行了常压非平衡等离子体渗氮,着重讨论了有关工艺参数的影响情况.正交试验结果表明,合理选择放电电压、放电间距和渗氮温度是获得良好渗氮层的关键.在本工艺条件下,适当减小放电间隙,增大电场强度,可以明显提高渗层的硬度和深度.

[1]	Pochner K;Neff W;Lebert R .Atmospheric pressure gas discharge for surface treatment[J].Surface and Coatings Technology,1995,74-75:394-398.
[2]	徐学基;诸定昌.气体放电物理[M].上海:复旦大学出版社,1996:190-220.
[3]	白希尧,张芝涛,白敏冬,韩慧.高气压强电离放电等离子体学科的形成及应用展望[J].自然杂志,2000(03):156-161.
[4]	严立;朱新河;秦艳.常压等离子体渗扩技术应用基础理论[J].中国学术期刊文摘,2000(06):50.
[5]	朱新河,严立,秦艳,徐久军,金华,谢景峰.常压等离子体表面渗扩技术研究[J].中国表面工程,2001(04):30-33.
[6]	丁汉哲.试验技术[M].北京:机械工业出版社,1982:99-109.
[7]	杨烈宇.离子轰击渗扩技术[M].北京:人民交通出版社,1990:14.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分