研究了硬质合金基底上采用Cu和Cu/Ti作过渡层CVD金刚石薄膜的附着力.XRD研究了金刚石薄膜的成分和结构,激光Raman谱和洛氏硬度计评价了金刚石薄膜的质量和附着力.结果表明,在Cu过渡层中引入Ti,由于Ti向生长面的扩散，促进了金刚石的二次晶核,导致晶粒细化.在沉积初期,晶粒细化也提高了金刚石薄膜与基体表面的实际接触面积.微晶金刚石有利于提高薄膜的附着力和抗冲击韧性。
参考文献
| [1] | 马志斌,汪建华,万美珍,邬钦崇.铜植入层对硬质合金上金刚石薄膜附着力的影响[J].武汉化工学院学报,2000(04):34-36. |
| [2] | 苏革;闻立时;成会明 .金刚石薄膜与基材之间过渡层技术的研究[J].材料科学与工艺,1998,6(04):22-24. |
| [3] | 韩毅松,玄真武,刘尔凯,侯立.纳米金刚石膜--一种新的具有广阔应用前景的CVD金刚石[J].人工晶体学报,2002(02):158-163. |
| [4] | Chii-Ruey Lin;Cheng-Tzu Kuo .Improvement of diamond film adhesion on cemented carbides (WC/Co) by using Ti and microdiamonds as seeding germination[J].Scripta materialia,1998(3):385-390. |
| [5] | 黄元盛,刘正义,邱万奇.CVD金刚石薄膜二次形核机制的研究[J].材料科学与工程,2001(01):53-55. |
| [6] | 黄树涛,于骏一,姚英学,袁哲俊.金刚石薄膜与W、WC-6%Co基体间的界面结构研究[J].中国机械工程,2000(12):1398-1400. |
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