对电沉积非晶态铬镀层的研究现状,非晶态铬镀层的组织与性能特点进行了全面的综述,指出了研究中尚未解决的问题,展望了非晶态铬镀层在工程中的应用前景.
参考文献
[1] | 蒋太祥,胡信国,戴长松,王殿龙.非晶态镍磷合金电刷镀溶液性能研究[J].材料保护,1999(02):9-11. |
[2] | Rungywan T;Wu Shinn tyan .Influence of Pulse Plating on the Crystal Structure and Orientation of Chromium[J].Journal of the Electrochemical Society,1999,138(09):2622. |
[3] | Deneven B A;Lalvani S B.Electrodeposition and Characterization of Amorphous Cr-P Alloy[J].Journal of Applied Electrochemistry,1992(22):341. |
[4] | 于维平;李荻.非晶电镀方法及应用[M].北京:北京航空航天大学出版社,1999 |
[5] | Hoshino S;LaitinenHerbert H A .The Electrodeposition and Properties of Amorphous Chromium Film Prepared From Chromic Acid Solution[J].Journal of the Electrochemical Society,1986,133(04):681. |
[6] | 高元成;姚素蔚 .电镀非晶铬的研究[J].东北工业学院学报,1989,10(03):303. |
[7] | 高元成;姚素蔚 .电镀非晶铬与热处理[J].表面技术,1989,18(06):4. |
[8] | 王先友 .电化学方法制备非晶态铬工艺的研究[J].材料科学与工程,1995,13(04):35. |
[9] | 何湘柱,龚竹青,蒋汉瀛.Cr(Ⅲ)水溶液电沉积非晶态铬的电化学[J].中国有色金属学报,2000(01):95-100. |
[10] | 三价铬水溶液电镀非晶态铬工艺[J].中国有色金属学报,1999(03):646. |
[11] | 安百刚,赵国鹏.添加剂在电沉积非晶态Cr-C合金工艺中的作用[J].腐蚀科学与防护技术,2001(03):180-181. |
[12] | 王先友.添加剂对非晶态Cr电沉积的影响[J].材料保护,1998(06):9. |
[13] | 王先友.非晶态铬镀液的电化学研究[J].材料保护,1996(07):1. |
[14] | Hoflund G B;Asbusy D A et al.A Surface of Amorphous Chromium Films Electrodepositied from Chromic Acid Solutions[J].Journal of Vacuum Science and Technology,1986,A4(02):26. |
[15] | Hoflund G B;Grongan A L.A Characterization Study of Amorphous Chromium Films Electrodepositied from Chromic Acid Solutions[J].Applied Surface Science,1987(28):224. |
[16] | 王先友.非晶态铬镀层表面的X光电子能谱研究[J].材料保护,1998(03):6. |
[17] | 王先友.电沉积非晶态铬镀层及其耐蚀性[J].材料保护,1996(11):3. |
[18] | 安百刚,赵国鹏,李莉香.非晶态Cr-C合金镀层与晶态Cr镀层的耐蚀性比较[J].材料保护,2000(02):3-4. |
[19] | 安百刚,赵国鹏,张学元,宋诗哲,李洪锡.电沉积非晶态Cr-C合金镀层结构变化对硬度的影响[J].材料保护,2002(04):15-16. |
[20] | 李惠东,李敏,李惠琪,孙冬柏.电沉积非晶态Cr-Fe-C合金镀层结构与性能研究[J].腐蚀科学与防护技术,1999(04):213-216. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%