磁控溅射工艺参数对不锈钢薄膜结合性能的影响

材料保护, 2004, 37(11): 27-62. doi: 10.3969/j.issn.1001-1560.2004.11.011

磁控溅射工艺参数对不锈钢薄膜结合性能的影响

周志华 ^1, , 傅明喜 ^2, , 黄兴民 ^3, , 陆琼晔 ^4,

1.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013

2.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013

3.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013

4.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013

关键词：磁控溅射 , 不锈钢薄膜 , 工艺参数 , 结合力

Influence of Technological Parameters on Binding Ability of Stainless Steel Film by Magnetron Sputtering

采用直流磁控溅射法在钢片上制备不锈钢薄膜,通过改变溅射功率、溅射时间、真空度、氩气压强、基片与靶材间距等,研究其对薄膜结合力的影响.为获得致密度高、结合力好的不锈钢薄膜提供了可行的工艺参数范围.

参考文献

[1]	杨烈宇;关文铎;顾卓明.材料表面薄膜技术[M].北京:人民交通出版社,1991
[2]	钱苗根.材料表面工程技术及应用手册[M].北京:机械工业出版社,1998
[3]	Donald M. Mattox .Ion plating -- past, present and future[J].Surface & Coatings Technology,2000(0):517-521.
[4]	曲敬信;汪泓宏.表面工程手册[M].北京:化学工业出版社,1998
[5]	Bitensky IS.;Sigmund P. .NONLINEAR TRANSMISSION SPUTTERING[J].Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms,1996(1/4):12-15.
[6]	徐滨士.表面工程的理论与技术[M].北京:国防工业出版社,1999
[7]	郑伟涛.薄膜材料与薄膜技术[M].北京:化学工业出版社,2004
[8]	刘金生.离子束沉积薄膜技术及应用[M].北京:国防工业出版社,2003
[9]	VossenJLK.Thin Film Processes[M].New York:Academic Press Inc,1978
[10]	陈宝清.离子镀及溅射技术[M].北京:国防工业出版社,1990
[11]	董允;张廷森;林小骋.现代表面工程技术[M].北京:机械工业出版社,2000
[12]	黎刚.Mo沉积成膜质量与磁控溅射条件间关系的STM研究[J].电子显微学报,1997(04):453.

上一张下一张

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%