研究了在环氧树脂封装材料表面进行化学镀铜时前处理过程中最佳粗化工艺条件:300 g/L CrO3,225 mL/L H2SO4,温度85℃,时间30 min.对粗化后的环氧树脂封装材料表面进行了SEM形貌分析、表面粗糙度及表征亲水性的接触角的计算.结果表明,采用的化学粗化工艺适用于此种环氧树脂基材料,在最佳工艺条件下可以得到较好的化学镀铜层,镀层与样件表面的结合力达到5B级,且镀层能起到较好的电磁屏蔽效果.
参考文献
[1] | 汪荣华.屏蔽EMI/RFI的化学镀层[J].材料保护,1991(09):8. |
[2] | 吴双成.塑料粗化原理与实践[J].材料保护,2000(10):20. |
[3] | 葛圣松;孙宏飞;邵谦.ABS塑料低温快速化学镀铜的研究[J].山东科学,1999(12):57-60. |
[4] | 田斌 .QFN封装电磁屏蔽用化学镀Cu的研究[D].天津:天津大学,2004. |
[5] | 肖华庭;诸昌清;霄有华.电磁兼容原理[M].北京:电子工业出版社,1985 |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%