为探讨电沉积初始过程对电镀层结合强度的影响,采用循环伏安法和表面增强拉曼(SERS)光谱研究了光亮铁电极在5%KCl溶液中表面氧化物随电位负移的还原过程,并应用循环伏安法和恒电流电位-时间法研究了氰化物镀铜体系铁基体的电位活化现象和电沉积初始过程.结果表明,在电位-0.9 V时,特征波数为424 cm-1和499 cm-1的Fe3O4谱峰消失,电位-1.2 V时,特征波数671 cm-1的FeO、谱峰明显降低,说明Fe3O4和FeO在不同电位下依次实现还原过程.循环伏安曲线在-0.9 V及-1.2 V附近也依次出现了铁氧化物的还原电流平阶.在氰化物镀液中,铜的析出电位(约-1.4 V)负于铁表面氧化物的还原电位,电极过程首先实现铁表面氧化物的还原,随后铜沉积在活化的铁基体上.
参考文献
| [1] | 石声泰.金属的氧化[J].材料保护,1979(02):1. |
| [2] | 冯绍彬,商士波,冯丽婷,包祥,张经纬,李宗慧.铜铁界面含氧层对镀层结合强度的影响[J].材料保护,2005(06):4-6. |
| [3] | 冯绍彬,商士波,包祥,冯丽婷,张经纬,李宗慧.电位活化现象与金属电沉积初始过程的研究[J].物理化学学报,2005(05):463-467. |
| [4] | 施建成,王桂华,王欣,章宗穰.新鲜铁表面锈蚀过程的拉曼光谱研究[J].上海师范大学学报(自然科学版),2001(04):62-66. |
| [5] | 曹佩根,姚建林,徐浩元,顾仁敖,田中群.铁电极表面拉曼光谱的初步研究[J].光散射学报,2000(02):87-89. |
| [6] | Fariadl A;Venancioslva S;Oliveiram T .Raman microspectroscopy of some iron oxides and oxyhydroxide[J].Journal of Raman Spectroscopy,1997,28:873-878. |
| [7] | Bange K;Mcintyre R;Sass J K .Angle-Resolved UPS studies of acetonitrile at monolayer coverages on Ag(110)[J].J Electronanl Chem,1984,178:351-358. |
| [8] | 顾伟,曹佩根,顾仁敖.表面增强拉曼光谱在铁腐蚀与防护研究中的应用[J].光谱学与光谱分析,2005(09):1412-1417. |
| [9] | 胡涛,路欣,阎研,傅云义,张酣,张树霖.用纯铁氧化法生长的铁氧化物样品的拉曼光谱研究[J].光谱学与光谱分析,2004(09):1072-1074. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%