用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强溅射沉积法在玻璃表面制备氧化铟膜

1.大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所

2.大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所

3.大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所

4.大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所

5.离子束、电子束和激光束材料改性实验室,大连理工大学

基金项目: 国家重点实验室基金

Preparation of Indium Oxide Film on Glass Surface Using Sputtering Deposition Synchro-enchanced by Microwave ECR Plasma Source lon-implantation

利用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强沉积法在玻璃表面制备了非化学计量半导体氧化铟膜.与反应溅射和反应沉积相比,此法制备的氧化铟膜与玻璃基体的附着良好,并因高的注入能量而改善了玻璃表面硬度.同时研究了In与O的结合能及浓度深度分布.

[1]	张树高,黄伯云,方勋华.ITO导电薄膜的用途和制备方法[J].粉末冶金材料科学与工程,1997(01):28-31.
[2]	张建民.氧化铟（In2O3）膜的反应蒸发制备[J].真空,1993(05):31.
[3]	Mai T .Synthesis of ceramic films on metallic substrates using magnetron-sputtering deposition synchroenhanced by microwave ECR plasma source ion implantation under high va-cuum conditions[J].Pure and Applied Chemistry,1998,70:1199.
[4]	Wagner C.D .Handbook of X-ray photoelectron spectroscopy[Z].Minnesota:perkin-Elmer Corppration,1979.
[5]	Wang Chengyu .Effect of nitrogen ion-implantation on silicate glass[J].Journal of Non-Crystalline Solids,1982,52:589.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分