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以新型的小型化CVD金刚石膜沉积设备为对象,设计了基于微控制器的集成控制系统,实现了对小型化设备无人看守状态下CVD金刚石膜的制备.阐述了采用混合信号SOC单片机C8051F020的系统硬件结构,实现了制备过程中各种物理量的实时采集.建立了基于模糊PID控制器混合算法的控制策略并对其进行优化.系统运用表明:该系统对沉积CVD金刚石的工艺参数控制精确,数据记录可靠,人机界面完善,系统能够长时间稳定运行,可以制备出高质量的CVD金刚石涂层.

参考文献

[1] Herlinger J .sp3's experience using hot filament CVD reactors to grow diamond for an expanding set of applications[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2006(1/2):65-69.
[2] D.W. Zuo;S.L. Song;B.K. Xiang;M. Wang .Some Key Points for EACVD Thick Diamond Film Preparation[J].Key engineering materials,2004(259/260):517-521.
[3] Zuo D W;Xiang B K;Lu W Z.Diamond thick film prepared by EACVD as cutting-tool material[A].陕西西安,2002:18-23.
[4] 卢文壮,左敦稳,王珉,黎向锋,徐锋,褚向前.大面积B掺杂CVD金刚石膜的制备研究[J].人工晶体学报,2004(05):726-730.
[5] 李磊,左敦稳,徐锋,黎向锋,卢文壮.HFCVD系统中衬底接触热阻的研究[J].人工晶体学报,2007(01):27-31,51.
[6] 张海余,左敦稳,徐锋,闫静.基于ANSYS的HFCVD金刚石厚膜的热应力分析[J].人工晶体学报,2007(01):170-174.
[7] 卢文壮,左敦稳,王珉,黎向锋,宋胜利,相炳坤.大面积EACVD金刚石沉积设备的研究[J].机械设计与制造,2003(06):81-83.
[8] 曾荡,左敦稳,王鸿祥,卢文壮,徐锋.热丝化学气相沉积系统的小型化研究与开发[J].苏州大学学报(工科版),2006(04):11-13.
[9] 李刚;林凌.与8051兼容的高性能、高速单片机C8051Fxxx[M].北京:北京航空航天大学出版社,2002
[10] Cygnal集成产品公司;潘琢金.C8051F单片机应用解析[M].北京:北京航空航天大学出版社,2002
[11] 虞致国,徐健健.MAX6675的原理及应用[J].国外电子元器件,2002(12):41-43.
[12] 王正林;郭阳宽.过程控制与Simulink应用[M].北京:电子工业出版社,2006:7.
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