研究了反应烧结SiC材料在1100℃空气中的高温氧化行为.结果表明:反应烧结SiC在1100℃的氧化动力学曲线符合抛物线规律:材料的氧化受O2和CO在玻璃态硅酸盐中的扩散所控制;材料中的杂质元素降低了SiO2氧化膜的粘度,促进了O2和CO在氧化膜中的扩散.
参考文献
[1] | Chinag Y;Messner P;Terwilliger C D .Reaction-formed silicon carbide[J].Materials Science and Engineering,1991,A144:63-74. |
[2] | Deal B E;Grove A S .General relationship for the thermal oxidation of silicon[J].Journal of Applied Physics,1965,36(12):3770-3778. |
[3] | Zheng Z;Tressler R E;Spear K E .Oxidation of single-crystal silicon carbide, Part I :Experimental studies[J].Journal of the Electrochemical Society,1990,137(03):854-858. |
[4] | 叶瑞伦;方永汉;陆佩文.无机材料物理化学[M].北京:中国建筑工业出版社,1986:63-73. |
[5] | Park SC.;Kim JJ.;Cho K. .Oxidation of hot-pressed silicon carbide in the cyclic and static conditions[J].Journal of Materials Science Letters,1998(1):23-25. |
[6] | Mieskowski Diane M;Mitchell T E;Heuer A H .Bubble formation in oxide scales on SiC[J].Journal of the American Ceramic Society,1984,67(01):17-18. |
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