Ni/SiO2复合电镀层高温氧化性能的研究

表面技术 , 2000, 29(6): 16-19. doi: 10.3969/j.issn.1001-3660.2000.06.005

Ni/SiO2复合电镀层高温氧化性能的研究

谭澄宇 ^1, , 梁英 ^2, , 夏长清 ^3, , 郑子樵 ^4,

1.中南工业大学材料系,湖南,长沙,410083

2.中南工业大学材料系,湖南,长沙,410083

3.中南工业大学材料系,湖南,长沙,410083

4.中南工业大学材料系,湖南,长沙,410083

关键词： Ni/SiO2复合镀层 , 高温氧化 , 纳米微粒

Research on the High Temperature Oxidation Resistance of Ni/SiO2 Composite Deposite

本试验在普通镀镍液中添加了10～40g/L的二氧化硅微粒,成功地制备了Ni/SiO2复合镀层,随后在800℃下进行了高温氧化试验.研究结果表明:不同粒径的微粒均可复合进入镀层,微粒的进入对镀层的高温抗氧化性有明显影响;初始氧化阶段,微粒的存在有利于提高镀层的抗高温氧化性能;在高温氧化过程中,还明显存在基底铜向镍镀层的扩散,这可能有利于增强镀层与基底之间的结合力.X射线衍射分析表明:高温氧化后在镀层表面主要生成NiO产物.

参考文献

[1]	松村宗顺.[J].金属表面技术(日本),1985
[2]	叶裕中.[J].电镀与精饰,1993
[3]	Kedwand E C et al.[J].Transactions of The Institute of Metal Finishing,1976,54(01):8.
[4]	朱诚意等.[J].电镀与环保,1998,18(01):3-7.

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

Ni/SiO2复合电镀层高温氧化性能的研究

Research on the High Temperature Oxidation Resistance of Ni/SiO2 Composite Deposite

参考文献