脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究

1.西安交通大学电气工程学院,陕西,西安,710049

2.西安交通大学电气工程学院,陕西,西安,710049

3.西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032

4.西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032

5.西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032

6.西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032

Study on the Deposition Ratio of Pulsed Vacuum Arc Ion Deposition

薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.

[1]	严一心;林鸿海.薄膜技术[M].北京:兵器工业出版社,1994
[2]	杭凌侠,严一心,朱昌.脉冲多弧离子镀研究[J].西安工业学院学报,1996(02):110-113.
[3]	吴汉基.脉冲真空电弧镀的实验研究[J].真空,1993(03):1.

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