微带蚀刻工艺影响因素的探讨

表面技术 , 2004, 33(2): 50-51. doi: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.020

微带蚀刻工艺影响因素的探讨

1.中国电子科技集团公司第39研究所,陕西,西安,710065

关键词：微带 , 蚀刻 , 酸性氯化铜 , 络合离子

Study on Influencing Factors of the Etching Techniques of Microstrip

阐述了在微带精密蚀刻过程中影响蚀刻速率变化的诸多因素,探讨了酸性氯化铜蚀刻液工艺控制应该注意的问题和解决办法.

参考文献

上一张下一张

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

在本站搜索
田波
在百度学术搜索
田波
在万方数据库搜索
田波
在CNKI搜索
田波

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%