辅助气体CH4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响

表面技术 , 2006, 35(4): 24-26. doi: 10.3969/j.issn.1001-3660.2006.04.008

辅助气体CH4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响

李璞 ^1, , 关凯书 ^2, , 朱晓东 ^3, , 周建新 ^4,

1.华东理工大学化工机械研究所,上海,200237

2.华东理工大学化工机械研究所,上海,200237

3.西安交通大学材料学院,陕西,西安,710049

4.华东理工大学化工机械研究所,上海,200237

关键词：离子束辅助 , 增强沉积 , 碳膜 , 类石墨膜 , 结合强度

Effect of Assisted Gases(CH4,Ar)on Carbon Coatings Formed by Ion Beam Enhanced Deposition

采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响.结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜.

参考文献

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