反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能

表面技术 , 2007, 36(6): 39-41. doi: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.06.014

反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能

吴莹 ^1, , 吴昕蔚 ^2, , 李广泽 ^3, , 李戈扬 ^4,

1.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

2.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

3.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

4.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

基金项目: 国家自然科学基金(50571062)

关键词：反应磁控溅射 , Ti(O,N)复合涂层 , 微结构 , 力学性能

Microstructure and Mechanical Properties of Reactively Sputtered Ti(O,N) Coatings

采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响.结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaCl结构.少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度.氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa.进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变.

参考文献

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