欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

为了确立最佳的碱性CuCl2蚀刻工艺条件,提高工作效率,采用烧杯静态吊片蚀刻法,研究了影响蚀刻速率的因素.主要研究结果如下:1)在蚀刻时间为5min时,单因素试验得出的适宜的工艺范围为:Cu2+的质量浓度约为140~180g/L,Cl-的质量浓度为4.8~6.5mol/L,pH为8.2~9.0,操作温度为48~55℃;2)正交试验结果表明,在Cu2+的质量浓度为160g/L,Cl-的质量浓度为5.5mol/L,pH为8.8,操作温度为50℃时,蚀刻状态最好,静态蚀刻速率可达到5.84μm/min.

参考文献

[1] 崔广华.印制板铜氨蚀刻液的研究[J].新技术新工艺,1998(04):38.
[2] 彭丽芬,张小春,陈桧华.酸性蚀刻剂的开发与应用[J].广东化工,2004(04):42-43,27.
[3] 田波.微带蚀刻工艺影响因素的探讨[J].表面技术,2004(02):50-51.
[4] 李德良,王丹,罗洁,龙丽娟,彭芸.乙醇胺碱性蚀铜液的研究[J].表面技术,2008(01):28-31.
[5] 魏静,罗韦因,徐金来,罗海兵.印刷线路板精细蚀刻的影响因素[J].表面技术,2005(02):49-50,55.
[6] 蔡坚;马莒生;汪刚强 等.FeCl3溶液中影响Cu蚀刻速度的因素[J].中国有色金属学报,1998,8(z1):61-65.
[7] 李德良 .从含铜废液中分离铜的方法及其设备[P].中国专利:CN0315367,2003-08-25.
[8] Li D L .Selective separation of copper by membrane-electro-winning and the recycling of copper etchers[J].Journal of Central South University(Science and Technology),2005,30(S):235-238.
[9] 叶瑾亮,李伟浩.碱性蚀刻盐的研制[J].广东化工,2002(04):2-3.
[10] 廖军,张杭贤.碱性蚀刻的过程控制[J].印制电路信息,2005(06):44-47.
[11] 李德良 .以溶剂萃取技术从PCB蚀铜液中回收铜的方法[P].中国专利:CN101008052,2006-11-07.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%