简单介绍了新开发的CH钝化工艺及其特点,用恒电量技术对比测试了CH钝化工艺形成的钝化膜和常规钝化膜,CH钝化膜的Rp、Rf值大,Cd、Cf值小;再应用循环伏安法在-1.02～-1.68 V范围进行测试,发现CH钝化膜的循环伏安图经10次循环后仍与第一次的一样.两种测试说明了CH钝化膜比常规钝化膜的耐蚀性高.两种电化学测试的结果与其它方法测试的结果一致.
参考文献
| [1] | 蒋雄.锌镀层铬酸钝化膜的形成机理及其色泽成因的探讨[J].材料保护,1976(06):16. |
| [2] | R Sarmaitis.锌表面上铬酸膜的耐蚀性(译文)[J].上海电镀,1982(02):61-67. |
| [3] | 上海长城电镀厂.镀锌层低铬钝化新工艺[M].上海:上海人民出版社,1988 |
| [4] | 赵常就.恒电量技术及在腐蚀测量中的应用[M].北京:国防工业出版社,1995 |
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