欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

考察了影响化学镀Co-Ni-P合金薄膜化学成分的因素,镀液中cCo2+/(cCo2++cNi2+)的比值越高和总金属离子浓度越低,薄膜的钴含量越高,镍和磷的含量越低.较高的pH值和较厚的薄膜会提高薄膜的钴含量,降低镍含量,磷元素倾向于偏聚在晶界上.

参考文献

[1] Matsubara H .Control of magnetic properties of chemically deposited cobalt nickel phosphorus films by Electrolysis[J].Journal of the Electrochemical Society,1994,141(09):2386.
[2] 卑多慧,宣天鹏,黄新民.化学镀Co-Ni-P薄膜的组织结构和生长机理研究[J].材料保护,1999(03):1-3.
[3] 洛温海姆;北京航空学院103教研室.现代电镀[M].北京:机械工业出版社,1982:855.
[4] 渡边;于维平.非晶态电镀方法及应用[M].北京:北京航空航天大学出版社,1992:15.
[5] 宣天鹏,卑多慧,刘玉.化学镀Co-Ni-P合金镀层增厚过程中结构和形貌的改变[J].稀有金属,1999(06):405-408.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%