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用喷射电沉积法制备纳米晶镍,研究了电解液喷射速度、电流密度、沉积速度等工艺参数之间的关系,分析了沉积层的组织结构.结果表明:电解液喷射速度为2~5.5 m/s,电流密度在80~160 A/dm2之间时,最大沉积速度为14~32 μm/min,沉积层外观光亮.x-射线衍射谱观察和透射电镜的分析表明:沉积层平均晶粒尺寸为20~30 nm,且存在(220)结构.

参考文献

[1] 卢柯;周飞 .纳米晶材料的研究现状[J].金属学报,1997,33(01):99.
[2] EL-sherik A M;ERB U .Synthesis of bulk nanocrystalline nickel by pulsed electrodeposition[J].Journal of Materials Science,1995,30:5743.
[3] 徐承坤,杨中东.电沉积法制备纳米晶材料[J].金属功能材料,1997(03):102.
[4] 张允诚;胡如南;向荣.电镀手册[M].北京:国防工业出版社,1997:310.
[5] Imre Bakonyi;Enik Tóth-kadár;Lajos Pogany .Preparation and characterization of d.c-plated nanocrystalline nickel electrodeposits[J].Surface and Coatings Technology,1996,78:127.
[6] Karakus C;Chin D T .Metal distribution in jet plating[J].Journal of the Electrochemical Society,1994,141(03):696.
[7] 丁星兆;柳襄怀 .纳米材料的结构.性能及应用[J].材料导报,1997,11(04):1.
[8] 黄子勋;吴纯素.电镀理论[M].北京:中国农业出版社,1982:82.
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