Zn-Ni合金电沉积过程中的渗氢行为

电镀与精饰 , 2006, 28(2): 10-41. doi: 10.3969/j.issn.1001-3849.2006.02.003

Zn-Ni合金电沉积过程中的渗氢行为

惠百平 ^1, , 费敬银 ^2, , 辛文利 ^3, , 刘江宏 ^4, , 王卫康 ^5,

1.西北工业大学,陕西,西安,710072

2.西北工业大学,陕西,西安,710072

3.西北工业大学,陕西,西安,710072

4.西北工业大学,陕西,西安,710072

5.西北工业大学,陕西,西安,710072

关键词： Zn-Ni合金 , 电镀 , 电化学渗氢 , 氢覆盖率 , 孔隙率

Behavior of Hydrogen Permeation in Zn-Ni Alloy Electrodeposition

用电化学渗氢测试方法探讨了氯化物体系、硫酸盐-氯化物混合体系电沉积Zn-Ni合金镀层过程中的渗氢行为.结果表明,氯化物体系比硫酸盐-氯化物混合体系渗氢电流小,用电镀过程中的氢覆盖率和镀层孔隙率对渗氢特点进行了解释.

参考文献

[1]	Venkatesan S;Subramanian R;Devanathan M A V .Co-Deposition of hydrogen in zinc electroplating[J].Metal FInishing,1966,64(05):50-53.
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