采用极化曲线和交流阻抗法,与Ni-P合金镀层对比,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层在3.5% NaCl水溶液中的电化学行为.极化曲线结果表明,化学镀Ni-Cu-P合金镀层的自腐蚀电流密度(4.037 μA/cm2)远远小于Ni-P合金镀层,说明Ni-Cu-P合金镀层的耐蚀性能比Ni-P合金镀层好.在交流阻抗谱图中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层在整个浸泡过程中仅出现一个时间常数的单容抗弧,镀层电阻不断的增大,表明镀层有钝化膜不断生成.
参考文献
[1] | 姜晓霞;沈伟.化学镀理论与实践[M].北京:国防工业出版社,2000:426-428. |
[2] | 李宁;袁伟国;黎德育.化学镀镍基合金理论与技术[M].哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2000:167-169. |
[3] | 于光;黎永均 .化学镀Ni-Cu-P合金的工艺及镀层性能研究[J].兵器材料科学与工程,1994,17(04):21-26. |
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