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介绍了铜箔的用途和分类,以及电解铜箔和压延铜箔的生产方法,简述了印制电路板用铜箔的表面处理工艺流程,对比了国内外印制电路用铜箔的制备方法和表面处理技术.国内已能生产出厚度为9 μm的电解铜箔,但压延铜箔的生产技术有待于研究.

参考文献

[1] 余德超,谈定生,王勇,范君良,赵为上.印制板用铜箔表面处理工艺研究进展[J].电镀与涂饰,2006(12):10-13,17.
[2] 张世超,石伟玉,白致铭.铜箔表面粗化工艺的研究[J].电镀与精饰,2005(05):1-3.
[3] 冷大光;胡京江;郭宗训 等.电解铜箔镀锌的研究[J].金属学报,1998,34(11):1227-1229.
[4] 冯志军 .电解铜箔的黑色处理[J].表面技术,1994,23(03):142.
[5] 赵为上,谈定生,王勇,范君良,韩月香.电解铜箔镀镍处理及其性能的研究[J].电镀与精饰,2006(04):14-16.
[6] 王征,安茂忠,胡旭日,徐树民,高振国.电沉积Zn-Ni-Sn合金工艺研究[J].材料工程,2006(04):37-40,55.
[7] 藤原和久;丹博司;藤井光南 等.具有优良的耐化学性和耐热性的用于印制线路板的铜箔[P].CN 1260684A,2000-07-19.
[8] Sangyum Kim;Chang Hee Chol;Cha Jae Jo et al.Method for manufacturing very low roughness electrodeposited copper foil and electrodeposited copperfoil manufactured thereby[P].US 20040104118A1,2004-06-03.
[9] 崎健作 .用于高频率的铜箔及其制造方法[P].CN 1530469A,2004-09-22.
[10] 酒井久雄;横田俊子;浅井务 等.高抗张强度电解铜箔及其制造方法[P].CN 1193360A,1998-09-16.
[11] Chiuyen Chiu;Jungchou;Jinyaw Liu .Surface treatment for a wrought copper foil for use on a flexible printed circuit board(FPCB)[P].US 20040108211A1,2004-06-10.
[12] 金荣涛.电解铜箔双面处理生产工艺的选择[J].有色冶炼,1995(05):33-35.
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