采用对称-单纯形法对电沉积渗硅熔融盐配方进行了优化设计.设计结果表明,通过计算得到的渗层厚度与熔融盐成分之间的回归方程具有明显的显著性,选择出最佳配方为n(NaCl)∶n(KCl)∶n(NaF)∶n(SiO2)=1∶1∶3∶0.3,用此配方在低硅钢基体上获得了34.51μm渗硅层,实验值与预测值基本吻合.辉光放电光谱仪测定出渗硅层中Si元素呈梯度分布,渗硅层与基体结合良好,光学金相照片显示渗硅层厚度均匀.
参考文献
| [1] | Fiorillo F .Advances in Fe-Si properties and their interpretation[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1996,157/158:428-431. |
| [2] | Tanya Ros-Yanez;Daniel Ruiz;Jose Barros .Advances in the production of high-silicon electrical steel by thermomechanical processing and by immersion and diffusion annealing[J].Journal of Alloys and Compounds: An Interdisciplinary Journal of Materials Science and Solid-state Chemistry and Physics,2004(1/2):125-130. |
| [3] | Haiji H;Okada K;Hiratani T et al.Magnetic properties and workability of 6.5%Si steel sheet[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1996,160:109-114. |
| [4] | 杨劲松,谢建新,周成.6.5%Si高硅钢的制备工艺及发展前景[J].功能材料,2003(03):244-246. |
| [5] | 蔡宗英,张莉霞,李运刚.电化学还原法制备Fe-6.5%Si薄板[J].湿法冶金,2005(02):83-87. |
| [6] | 杨德.试验设计与分析[M].北京:中国农业出版社,2002:259. |
| [7] | 朱伟勇;傅连魁.冶金工程试验统计[M].北京:冶金工业出版社,1991:449. |
| [8] | 周静 .熔融盐电解法制备硅粉的基础研究[D].唐山:河北理工大学,2007. |
| [9] | 何小凤,李运刚,田薇,梁精龙.SiO2在KCl-NaCl-NaF体系中的溶解度及溶解机理[J].中国有色金属学报,2008(05):929-933. |
| [10] | 朱伟勇;段晓东;唐明.最优设计在工业中的应用[M].沈阳:辽宁科学技术出版社,1993:594-595. |
| [11] | 滕敏康.实验误差与数据处理[M].南京:南京大学出版社,1989:250-257. |
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