采用等离子体电解氧化技术在AA6063铝合金表面制备陶瓷膜层,拟提高铝合金耐腐蚀性能.对等离子体氧化过程电流电压特性及击穿放电特性进行了分析和探讨,采用光发射光谱仪对等离子体氧化放电阶段等离子体活性组分进行分析,对陶瓷膜层的耐腐蚀性能进行了研究.结果表明,相比于基体而言,等离子体氧化陶瓷膜层腐蚀电位正移了0.86V.在470V时,等离子体活性物种主要由Al、Al+、Mg、O+、Hα、Hβ、OH、Na和K组成,且金属活性物种先被激发.这些活性物种中金属元素及工作电极表面产生的气体的原子和分子对等离子体场能量的稳定起到关键的作用.
参考文献
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