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研究了酒石酸钾钠对羟基乙叉二膦酸(HEDP)镀铜形核的影响.通过线性扫描伏安、交流阻抗和循环伏安曲线研究铜沉积的电化学行为.随着镀铜液中酒石酸钾钠含量的提高,阴极极化曲线负移,X-射线衍射结果表明,晶粒由44 nm减小到40 nm;酒石酸钾钠的加入使循环伏安电流环消失;在-1.44、-1.45和-1.46V的电位下,酒石酸钾钠的质量浓度在0~21 g/L内,镀液中铜离子在玻碳电极上的形核方式都为三维瞬时形核,不改变铜的形核方式;酒石酸钾钠的质量浓度增加到21 g/L,成核数密度和晶核垂直生长速率较基础液都有所增大;在电位-1.00 ~-1.20V之间,铜络离子还原的表观反应活化能随着电位负移而减小,表观反应活化能由14 kJ/mol增大到25kJ/mol,电极反应由扩散控制转向扩散过程和电极反应过程联合控制.

参考文献

[1] 葛沛然.高稳定型焦磷酸盐预镀铜[J].材料保护,1987(01):58.
[2] 杨防祖;宋维宝;黄令;姚光华;周绍民.钢铁基体酒石酸盐碱性无氰镀铜[J].电镀与精饰,2009(6):1-4,20.
[3] 王树森;梁成浩.柠檬酸-酒石酸盐无氰镀铜工艺研究[J].电镀与涂饰,2010(3):9-11.
[4] 程良.三乙醇胺碱性光亮镀铜[J].材料保护,1988(04):30.
[5] 张强;曾振欧;徐金来;赵国鹏.HEDP溶液钢铁基体镀铜工艺的研究[J].电镀与涂饰,2010(3):5-8.
[6] 钱金录.HEDP一次镀铜[J].电镀与精饰,1982(04):37.
[7] 高海丽;曾振欧;赵国鹏.HEDP镀铜液在铜电极上的电化学行为[J].电镀与涂饰,2008(8):1-4.
[8] 郑精武;周杰;郑飚;乔梁;姜力强;张诚.三乙醇胺对羟基亚乙基二膦酸镀铜液的影响研究[J].化学学报,2011(24):2921-2928.
[9] 陈阵;郭忠诚;周卫铭;武剑;王永银.KNaC4H4O6和EDTA双络合体系碱性镀铜工艺研究[J].表面技术,2011(1):73-77.
[10] 田永常;方小红;潘秉锁;杨凯华.NH4 HF2对铁电沉积过程的影响[J].表面技术,2014(3):54-58.
[11] M. R. Majidi;K. Asadpour-Zeynali;B. Hafezi.Reaction and nucleation mechanisms of copper electrodeposition on disposable pencil graphite electrode[J].Electrochimica Acta,20093(3):1119-1126.
[12] Darko Grujicic;Batric Pesic.Electrodeposition of copper: the nucleation mechanisms[J].Electrochimica Acta,200218(18):2901-2912.
[13] Darko Grujicic;Batric Pesic.Reaction and nucleation mechanisms of copper electrodeposition from ammoniacal solutions on vitreous carbon[J].Electrochimica Acta,200522(22):4426-4443.
[14] 辜敏;李强;鲜晓红;卿胜兰;刘克万.PEG-Cl-添加剂存在下的铜电结晶过程研究[J].化学学报,2007(10):881-886.
[15] 许利剑;杜晶晶;汤建新;张继德.电沉积Ni-Cr合金电化学行为的研究[J].材料保护,2008(2):23-25.
[16] 郭艳;曾振欧;谢金平;范小玲.焦磷酸盐溶液体系电沉积锡的动力学研究[J].电镀与涂饰,2014(21):907-910.
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