使用含硅合金熔体对TiAl基合金进行了表面渗硅处理,渗硅处理温度范围是:913～1053K.实验发现,TiAl基合金与Al-Si熔体之间发生了界面反应,界面生成以Si,Ti,Al三元素为主的灰白色基体和条状、小块状黑色相.表面处理后样品经1173K/100h高温氧化后,表层形成了Al2O3、SiO2等致密的氧化膜,并保留有稳定的Si-Ti-Al相,因而改善了表面氧化层结构,大大增强了 TiAl基合金的高温抗氧化能力.
参考文献
| [1] | 唐兆麟;王福会 等.反应溅射Al2O3膜对TiAl抗高温氧化性能的影响[J].材料研究学报,1997,11(05):507. |
| [2] | 徐东;朱宏 等.离子束增强沉积氮化硅膜及TiAl抗高温氧化性能的改善[J].金属学报,1995,31(04):B164. |
| [3] | 王福会;唐兆麟 .TiAl金属间化合物的高温氧化与防护研究进展[J].材料研究学报,1998,12(04):337. |
| [4] | 彭晓;唐兆麟 .Ni-La2O3复合镀层对TiAl抗氧化性能的影响[J].金属学报,1998,34(03):319. |
| [5] | 何秀丽;王华明 等.Ni-La2O3复合镀层对TiAl抗氧化性能的影响[J].金属学报,1998,34(09):983. |
| [6] | S. Taniguchi;K. Uesaki;Y.-C. Zhu;Y. Matsumoto;T. Shibata .Influence of implantation of Al, Si, Cr or Mo ions on theoxidation behaviour of TiAl under thermal cycle conditions[J].Materials Science & Engineering, A. Structural Materials: Properties, Misrostructure and Processing,1999(1/2):267-275. |
| [7] | B G Kim;G M Kim;C J Kim .Effect of silicon and niobium on oxidation resistance of TiAl intermetallics[J].Scripta Metallurgica et Materialia,1995,33(07):1117. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%