Al含量对Ti1-XAlXN涂层组织结构的影响

材料工程, 2002, (8): 24-12. doi: 10.3969/j.issn.1001-4381.2002.08.007

Al含量对Ti1-XAlXN涂层组织结构的影响

王永康 ^1, , 熊仁章 ^2, , 雷廷权 ^3, , 夏立芳 ^4, , 李炳生 ^5,

1.宁波市表面工程研究中心,宁波市,315041

2.宁波市表面工程研究中心,宁波市,315041;哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

3.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

4.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001

5.宁波市表面工程研究中心,宁波市,315041

关键词：多弧离子镀 , Ti1-XAlXN涂层 , 组织结构 , (Ti,Al)N

The Effect of Al Content on the Microstructure of Ti1-XAlXN Coating

通过不同Al含量的Ti-Al粉末冶金靶,采用多弧离子镀技术制备了Ti1-XAlXN涂层.用SEM、XRD、GAXRD以及XTEM等手段研究了Al元素对涂层组织结构的影响.研究表明,TiAlN涂层呈柱状多晶组织,(Ti,Al)N为涂层的主要组成相;随着Al含量的增加,涂层中的(Ti,Al)N相减少,且其晶格常数降低.

参考文献

[1]	王永康,夏立芳,雷廷权,熊仁章,白羽.TiAlN/Ti多元复合涂层的截面透射电镜研究[J].兵器材料科学与工程,2000(06):12-15.
[2]	S B Sant;K S Gill.Growth and Characterization of Cathodic Arc Evaporated CrN, (Ti,Al)N and (Ti,Zr)N Films[J].Surface and Coatings Technology,1994:152-156.
[3]	王永康,雷廷权,夏立芳,熊仁章.Ti0.5Al0.5N涂层的抗高温氧化行为[J].材料工程,2001(01):12-14.
[4]	J Palmers;M V Stappen.Deposition of (Ti,Al)N Coatings by Means of Electron Beam Ion Plating with Evaporation of Ti and Al from Two Separate Crucibles[J].Surface and Coatings Technology,1995:363-366.
[5]	E Lugscheider;O Knotek.Deposition of Arc TiAlN Coating with Pulsed Bias[J].Surface and Coatings Technology,1995:700-705.
[6]	Y K Wang;L F Xia;T Q Lei et al.A Research on Microstructure and Properties of (Ti,Al)N Coating[J].Surface and Coatings Technology,1995(72):71-75.
[7]	B F Coll;P Sathrum et al.Optimization of Arc Evaporated (Ti,Al)N Film Composition for Cutting Tool Applications[J].Surface and Coatings Technology,1992(52):57-64.

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