原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护

腐蚀科学与防护技术, 2002, 14(2): 78-81. doi: 10.3969/j.issn.1002-6495.2002.02.004

原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护

张蕾 ^1, , 严川伟 ^2, , 屈庆 ^3, , 李美栓 ^4, , 曹楚南 ^5, , 孙刚 ^6, , 童静宇 ^7,

1.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;辽宁大学化学科学与工程学院,沈阳,110036

2.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016

3.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016

4.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016

5.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016

6.北京卫星环境工程研究所,北京,100029

7.北京卫星环境工程研究所,北京,100029

关键词： Kapton 原子氧(AO) 降解防护

ATOMIC OXYGEN IRRADIATION INDUCED DEGRADATION OF POLYIMIDE WITHOUT AND WITH SILOXANE COATING

用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.

参考文献

[1]	Bruce A, Sharon K, Joyce A, et al. NASA, N89 - 12582, 611989
[2]	Singh B, Amore L J, Sayler W, et al. AIAA - 85 0477 1987
[3]	Visentine J T. NASA, TM - 100459, 1998. Vols. 1-2
[4]	Tennyson R C, Morision W D, Klemberg J E, et al. AIAA Paper92 - 2152, 1992
[5]	Dunnet A, Kirkendal T D. ESA - SP - 320, 1991. 701
[6]	Stein B A, Young P R. NASA, CP - 10046, 1990
[7]	Stein B A. NASA, CP - 3162, 1992
[8]	Levine A S. NASA, CP - 3134,1992
[9]	Schwam D. Space, 1993, 9(40) .- 14

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