反应离子束溅射沉积和还原退火工艺制备VOx多晶薄膜

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基金项目: 国家自然科学基金(60106003)

Fabrication of Polycrystalline VOx Films through Reactive Ion-beam Sputtering and Reductive Annealing

通过反应离子溅射沉积和后退火工艺制备出优质微测辐射热计用的氧化钒薄膜.对薄膜退火前后进行了扫描电子显微镜分析,结果表明,制备的VOx多晶薄膜致密均匀,退火后晶粒尺寸变大.电学测试表明,在室温时薄膜的方块电阻约为50kΩ,电阻温度系数为-0.022/K,满足制作高性能微测辐射热计的要求.

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