用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2为反应气体,在白宝石上制备SiO2薄膜.对影响薄膜生长的工艺参数进行了分析,测试了薄膜的成分,并研究了薄膜的红外光学性能.结果表明,制备的薄膜中Si和O形成SiO2化学键,计算出的O与Si的原子比接近2:1,采用射频磁控反应溅射法在白宝石上能够沉积出SiO2薄膜.制备出的SiO2薄膜对白宝石衬底有较好的增透作用.
参考文献
| [1] | 赵秀丽.红外光学系统设计[M].北京:机械工业出版社,1986 |
| [2] | 张贵锋.新型红外增透膜与保护膜[J].红外技术,1995(05):23. |
| [3] | Schmid F;Khattak C P.Current stares of sapphire technology for window and dome applications[A].F1orida,1989:25-30. |
| [4] | Schmid F;Chandra P Khat tak;Frederick Schmid.Correlation of sapphire quality with uniformity and optical properties[A].MA,1997:250-257. |
| [5] | 张旭苹;陈国平.射频反应溅射SiO2薄膜的研究[J].真空电子技术,1994(03):3-6. |
| [6] | 宗婉华;马振昌;王立侠 .磁控溅射二氧化硅薄膜的制备工艺[J].半导体情报,1994,31(06):29-33. |
| [7] | 陈立春,王向军,徐叙瑢,姚健铨.SiO2薄膜的制备方法与性质[J].发光学报,1995(03):249-255. |
| [8] | Linda F Johnson;Mark B Moran.Compressive coatings for strengthened sapphire[A].MA,1999:130-141. |
| [9] | 王英剑,王靖,宋永香,张虹,李庆国,范正修.白宝石窗口增透膜的研究[J].中国激光,2001(08):765-768. |
| [10] | 李学丹;万学英;姜祥祺.真空沉积技术[M].杭州:浙江大学出版社,1994 |
| [11] | J L 沃森 W 克恩.薄膜加工工艺[M].北京:机械工业出版社,1987 |
| [12] | 严一心;林鸿海.薄膜技术[M].北京:国防工业出版社,1994 |
| [13] | 张振杰.光学[M].西安:西北大学出版社,1994 |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%