CuCl+注入α-Al2O3晶体退火后表面亚微米颗粒的形成情况研究

材料开发与应用, 2008, 23(6): 4-6. doi: 10.3969/j.issn.1003-1545.2008.06.002

CuCl+注入α-Al2O3晶体退火后表面亚微米颗粒的形成情况研究

王春芬 ^1, , 黄宁康 ^2, , 张海峰 ^3, , 张永辉 ^4,

1.中国船舶重工集团公司第七二五研究所,河南洛阳,471039

2.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,四川成都,610064

3.中国船舶重工集团公司第七二五研究所,河南洛阳,471039

4.中国船舶重工集团公司第七二五研究所,河南洛阳,471039

基金项目: 国家自然科学基金(10176106)

关键词：离子注人 , 退火 , 偏聚 , 亚微米颗粒

Formation of Sub-μm Particles in the CuCl+ Implanted α-Al2O3 Crystal after Annealing

CuCl+离子注入不同晶向的α-A12O3晶体中,对在还原气氛下退火后的试样进行SEM表面观察.结果发现,不同注入条件和不同温度退火的不同晶向α-Al2O3晶体表面均形成弥散的亚微米颗粒.说明CuCl+离子注入α-Al2O3晶体产生的缺陷损伤在退火过程中,单个分散的带电色心缺陷与CuCl+离子形成的缺陷缔合体在恢复过程中发生了CuCl原子的偏聚,随着退火时间的增加,偏聚程度提高而形成颗粒,并逐渐长大形成亚微米颗粒.颗粒的大小和分布随注入条件以及退火温度不同而不同.

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CuCl+注入α-Al2O3晶体退火后表面亚微米颗粒的形成情况研究

Formation of Sub-μm Particles in the CuCl+ Implanted α-Al2O3 Crystal after Annealing

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