欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

CVD金刚石膜材料具有优异的力、热、声、光、电学等性质并由于尺寸可控从而弥补了天然金刚石在尺寸、杂质方面的应用限制,因而具有广阔的发展前景.结合当前金刚石膜应用发展中遇到的技术及经济问题,从金刚石膜产品质量的提高及生产成本的控制两方面讨论了CVD金刚石膜在今后大规模产业化应用中应注意的细节.在提高金刚石膜产品质量上,应努力缩短与国外厂家在CVD设备设计及制造方面的差距,提高金刚石膜材料的机械强度以及增强金刚石膜与衬底材料间的结合力;在控制金刚石膜产品价格上,可通过循环利用反应气体,改进反应腔结构,合理调配功率等手段降低生产成本以增强CVD金刚石膜的市场竞争力.今后应针对金刚石膜材料的光学、声学、化学、电学以及生物学等领域不断开发更广泛的新用途.

参考文献

[1] 相炳坤,左敦稳,李多生,陆海泉,陈荣发.大面积球面金刚石膜的均匀沉积研究[J].人工晶体学报,2009(01):33-38.
[2] Daniel Harrs C.Status for infrared applications[A].Boulder.NIST,1995:539.
[3] 吕反修,宋建华,唐伟忠,黑立富,李成明,陈广超.CVD金刚石自支撑膜的力学性能[J].热处理,2011(01):1-9.
[4] 赵刚,赵江,张亚非.金刚石晶体生长研究进展[J].上海交通大学学报,2010(04):584-587,592.
[5] 相炳坤,左敦稳,黎向锋,徐锋,李多生,陈荣发.中国金刚石膜技术专利现状分析[J].人工晶体学报,2008(05):1242-1248,1267.
[6] 唐伟忠,于盛旺,范朋伟,李义锋,苏静杰,刘艳青.高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状[J].中国材料进展,2012(08):33-39.
[7] 王亨瑞,雷亚民,玄真武,何敬晖,董长顺.论化学气相沉积(CVD)金刚石技术最新发展[J].超硬材料工程,2010(01):22-27,30.
[8] Yutaka Ando;Takeshi Tachibana;Koji Kobashi .Growth of diamond films by a 5-kW microwave plasma CVD reactor[J].Diamond and Related Materials,2001(3 Pt.1):312-315.
[9] 皮华滨,熊军,汪建华,王传新,吴雪梅.CVD金刚石厚膜力学性能[J].武汉工程大学学报,2009(01):51-53,57.
[10] R. H. Olsen;R. C. Dewes;D. K. Aspinwall .Machining of electrically conductive CVD diamond tool blanks using EDM[J].Journal of Materials Processing Technology,2004(1/3):627-632.
[11] Wei J;Chang J M .Deposition of diamond films with controlled nucleation and growth using hot filament CVD[J].Thin Solid Films,1992,212:91-95.
[12] 吕反修;付一良;钟国仿 等.CVD金刚石膜的断裂行为[J].金属热处理学报,1997,18(03):117-122.
[13] 唐达培,高庆,吴兰鹰.金刚石膜厚度尺寸对热残余应力的影响[J].高压物理学报,2007(03):316-321.
[14] 吕反修,宋建华,唐伟忠,黑立富,李成明,陈广超.CVD金刚石自支撑膜的力学性能[J].热处理,2011(01):1-9.
[15] 何敬晖,秦松岩,玄真武,董长顺,苗雨新,陈磊.不同晶粒尺寸对CVD金刚石膜机械性能的影响[J].超硬材料工程,2009(05):5-7.
[16] Meng XM;Askari SJ;Tang WZ;Hei LF;Wang FY;Jiang CS;Lu FX .Nano-crystalline CVD diamond films deposited on cemented carbide using high current extended DC arc plasma process[J].Vacuum: Technology Applications & Ion Physics: The International Journal & Abstracting Service for Vacuum Science & Technology,2008(5):543-546.
[17] Ham Y S;Kim Y K;Lee J Y .Effects of argon and oxygen addition to the CH4-H2 feed gas on diamond synthesis by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition[J].Thin Solid Films,1997,310(1-2):39-46.
[18] 舒兴胜,邬钦崇,梁荣庆.氧气对MWPCVD制备金刚石膜的影响[J].真空科学与技术学报,2001(04):281-284,290.
[19] Yugo S;Kanai T;Kimura T et al.Generation of diamond nucleation by electric field in plasma chemical vapor deposition[J].Applied Physics Letters,1991,58:1036.
[20] Mitsuda K;Kojima Y;Yoshida T et al.The growth of diamond in microwave plasma under low pressure[J].Journal of Materials Science,1987,22:1557.
[21] Yang J;Su X W;Chen Q J et al.Si+ implantation:A pretreatment method for diamond nucleation on a Si wafer[J].Applied Physics Letters,1995,66(24):3284.
[22] 刘军伟 .沉积条件对CVD金刚石膜生长及其掺杂影响的研究[D].长春:吉林大学,2011.
[23] 邓福铭,赵晓凯,吴学林,邹波,张丹,陆绍悌.碳源浓度对CVD金刚石涂层质量的影响[J].硬质合金,2013(02):59-65.
[24] 吕反修,宋建华,唐伟忠,黑立富.金刚石膜涂层硬质合金工具研究进展及产业化前景[J].热处理,2008(01):2-11.
[25] 吕继磊,满卫东,陈朋,朱金凤,吴飞飞.硬质合金CVD金刚石涂层最新进展[J].硬质合金,2011(05):321-331.
[26] 邓福铭,卢学军,赵志岩,刘瑞平,李文铸.CVD金刚石厚膜刀具及应用研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2010(02):29-34.
[27] Zhu W;McCune R C;DeVries J E et al.Investigation of adhesion of diamond films on Mo,W and carburized W substrates[J].Diamond and Related Materials,1995,4:220-233.
[28] Ali N.;Ahmed W. .Chromium interlayers as a tool for enhancing diamond adhesion on copper[J].Diamond and Related Materials,2000(8):1464-1470.
[29] Wei Q P;Yu Z M;Ma L et al.Enhanced nucleation and smoothness of nanocrystalline dimond films via W-C gradient interlayer[J].International Journal of Modern Physics B,2009,23(6-7):1676-1682.
[30] Wang, T.;Xiang, L.;Shi, W.;Jiang, X. .Deposition of diamond/β-SiC/cobalt silicide composite interlayers to improve adhesion of diamond coating on WC-Co substrates by DC-Plasma Assisted HFCVD[J].Surface & Coatings Technology,2011(8/9):3027-3034.
[31] Wen Chi Lai;Yu-Shiang Wu;Hou-Cheng Chang .Enhancing the adhesion of diamond films on cobalt-cemented tungsten carbide substrate using tungsten particles via MPCVD system[J].Journal of Alloys and Compounds: An Interdisciplinary Journal of Materials Science and Solid-state Chemistry and Physics,2011(12):4433-4438.
[32] 邓福铭,吴学林,赵晓凯,李丹.影响CVD金刚石涂层工具界面结合强度的因素及改进措施[J].硬质合金,2012(03):167-173.
[33] 林志伟 .金刚石膜制备及其在机械加工领域的应用[D].长春理工大学,2008.
[34] 张宏志;姚英学;陈朔东 等.CVD金刚石厚膜焊接刀具的制造及切削性能[J].工具技术,1997,31(06):3-6.
[35] 邹建英.金刚石厚膜表面金属化及其钎焊研究[J].硬质合金,2011(06):364-367.
[36] 周健;傅文斌;袁润章.微波等离子体化学气相沉积金刚石膜[M].北京:中国建材工业出版社,2002
[37] 戴达煌;周克崧.金刚石薄膜沉积制备工艺与应用[M].北京:冶金工业出版社,2001
[38] 吕反修.化学气相沉积金刚石膜的研究与应用进展[J].材料热处理学报,2010(01):15-28.
[39] 陈辉,汪建华,翁俊,孙祁.微波功率对(100)晶面取向金刚石薄膜制备的影响[J].硬质合金,2013(02):53-58.
[40] 毕冬梅,付志雄.微波功率对光学级金刚石膜生长的影响[J].长春大学学报(自然科学版),2012(03):676-677,687.
[41] 李博 .MPCVD法制备光学级多晶金刚石膜及同质外延金刚石单晶[D].长春:吉林大学,2008.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%