研究了钇介入化学镀Co-Ni-B工艺后对沉积工艺、镀层结构与性能的影响.利用等离子发射光谱仪、电子能谱仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计等考察和分析了镀层的成分、结构、性能.结果表明,微量钇介入化学沉积后,沉积速度和镀液稳定性提高,镀层中硼和镍含量降低,具有非晶态结构的化学镀Co-Ni-B合金转化为晶态结构的化学镀Co-Ni-B-Y合金.钇明显提高了镀层的显微硬度,而且钇添加量越高,镀层的显微硬度越高.钇还提高了镀层的饱和磁化强度,降低了剩余磁化强度和矫顽力,表现出良好的软磁特性.
参考文献
| [1] | Osaka T .Co-B based soft magnetic films produced by electroless deposition[J].Journal of the Electrochemical Society,1992,139(05):985-988. |
| [2] | 宣天鹏,郑晓华,刘玉.化学镀Co-B合金层磁性的研究[J].兵器材料科学与工程,1999(01):34. |
| [3] | 章磊,宣天鹏,黄芹华,徐屹.铈对化学镀Co-Ni-P合金工艺的影响[J].电镀与精饰,2002(01):1-4. |
| [4] | 宣天鹏,卑多慧,刘玉.化学镀Co-Ni-P合金镀层增厚过程中结构和形貌的改变[J].稀有金属,1999(06):405-408. |
| [5] | 徐京娟;邓志煜;张同俊.金属物理性能分析[M].上海:上海科学技术出版社,1989:20-24. |
| [6] | 龙毅;张正义;李守卫.新功能磁性材料及其应用[M].北京:机械工业出版社,1997:130-133. |
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