用等效浓度差减法扣除Rh基体对杂质元素测定的干扰,用ICP-AES测定了RhCl3化合物中13个杂质元素含量.方法操作简便、快速,避免了直流电弧发射光谱分析方法烦琐的操作步骤并节约了大量的Rh基体,在精密度和准确度上也优于直流电弧发射光谱法.方法检测范围:Pb、Sn为0.003%～0.3%;Mg、Cu为0.0005%～0.05%;Fe、Ni、Cr、Zn、Al为0.001%～0.1%;Pt、Pd、Si为0.002%～0.2%.除Sn外的12个杂质元素的加标回收率为92.7%～117.3%,方法精密度为1.0%～8.5%.
参考文献
| [1] | YS/T 363-2006.YS/T 363-2006.纯铑中杂质元素的发射光谱分析[S]. |
| [2] | Kaltenbach R C;Manziek L.Rhodium/sampling and analysis[M].International Precious Metals Institute,1992:97-119. |
| [3] | Xinhua Zhang;Huifen Li;Yufang Yang .Determination of impurities in highly pure platinum by inductively coupled plasma-atomic emission spectrometry[J].Talanta: The International Journal of Pure and Applied Analytical Chemistry,1995(12):1959-1963. |
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