电沉积CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层组织结构的研究

电镀与涂饰 , 2000, 19(1): 5-8. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2000.01.002

电沉积CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层组织结构的研究

郭忠诚 ^1, , 翟大成 ^2, , 杨显万 ^3,

1.昆明理工大学,冶金系,云南,昆明,650093

2.昆明理工大学,冶金系,云南,昆明,650093

3.昆明理工大学,冶金系,云南,昆明,650093

基金项目: 云南省科技攻关计划(95B11-5)

关键词：二氧化铈-镍-钨-磷-碳化硅 , 电沉积 , 复合镀 , 组织结构

Study of the structure of composite cerium dioxide-nickel-tungsten-phosphorus-silicon carbide electrodeposits

稀土元素因其独特的理化性能而被广泛应用于材料科学领域.为得到理想的复合材料,在Ni-W-P-SiC复合电镀液中加入稀土氧化物二氧化铈制得CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层.利用电子探针X射线能谱仪、扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了镀层成分、形貌及组织结构.镀层中含4%～7%碳化硅和5%～14%二氧化铈,在镀态下为非晶态,在200℃时开始晶化,至500℃时完全转变为晶态,热处理对镀层表面形貌无影响.表明CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层具有良好的稳定性.

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电沉积CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层组织结构的研究

Study of the structure of composite cerium dioxide-nickel-tungsten-phosphorus-silicon carbide electrodeposits

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