脉冲电沉积钴镍合金及其生长形态的研究

电镀与涂饰 , 2001, 20(4): 1-7. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2001.04.001

脉冲电沉积钴镍合金及其生长形态的研究

张芳 ^1, , 荆天辅 ^2, , 乔桂英 ^3, , 陈闽子 ^4,

1.燕山大学材料科学与化学工程学院,

2.燕山大学材料科学与化学工程学院,

3.燕山大学材料科学与化学工程学院,

4.燕山大学材料科学与化学工程学院,

关键词：钴镍合金 , 脉冲电沉积 , 形态

Studies on pulsed electrodeposition of cobalt-nickel alloy and morphology of deposits

研究了钴镍合金镀液中mCO2+/(mCO2++mNi2+)对镀液中钴含量的影响.利用XJG-05金相显微镜观察了镀层表面形貌及截面生长形态.结果表明:合金镀层中的钴含量随着mCO2+/(mCO2++mNi2+)的增大而显著增大.电位较负的钴优先沉积,为异常共沉积.脉冲条件下所得镀层致密、均匀,呈胞状生长.

参考文献

[1]	张允诚;胡如南;向荣.电镀手册[M].北京:国防工业出版社,1997
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[3]	徐盘明;赵祥大.实用金属材料分析方法[M].北京:中国科学技术出版社,1990
[4]	封万起.由氨基磺酸盐和硫酸盐电解液电沉积Ni-Co合金的对比研究[J].电镀与精饰,1996(02):4.
[5]	王凤娥.电沉积镍基合金的研究进展[J].稀有金属,1998(05):375-379.

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