新型稀硫酸退铬工艺

电镀与涂饰 , 2002, 21(2): 13-14. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2002.02.005

新型稀硫酸退铬工艺

1.广东南海市制版中心,广东,南海,528231

关键词：退铬 , 稀硫酸

A new process for stripping of chromium electrodeposit in dilute sulfuric acid solution

提出了一种新型稀硫酸退铬工艺.探讨了其作用机理,分析了硫酸、添加剂、温度和电流密度对退铬速度的影响.

参考文献

[1]	曾宪雄.浅谈凹印制版的表面处理工艺[J].印刷技术,1998(09):17-19.
[2]	陈寿椿.重要无机化学反应[M].上海:上海科学技术出版社,1982:254.
[3]	刘承科;梁乃懋.普通化学[M].长沙:中南工业大学出版社,1989:286.

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