开发出铝在复合有机羧酸中的大电流硬质阳极氧化工艺.该工艺可在20～40 min的氧化时间内获得硬度为400～800 HV、厚度为30～60 μm的黑色致密氧化膜层.研究了工艺条件如复合有机羧酸浓度、初始电流密度以及氧化时间对膜层性能的影响.
参考文献
| [1] | 朱祖芳.铝阳极氧化的应用[J].电镀与涂饰,1999(01):40-43. |
| [2] | 侯朝辉,旷亚非,刘建平.铝表面无机非金属膜层的阳极沉积[J].电镀与环保,2000(03):32-34. |
| [3] | 唐浩,旷亚非,侯朝辉,周海晖.中性介质铝表面无机非金属膜层的电化学沉积Ⅰ无机非金属膜层的制备[J].电镀与环保,2001(04):20-24. |
| [4] | Vermilyea D A .The Crystallization of Anodic Tantalum Oxide Films in the Presence of a Strong Electric Fild[J].Journal of the Electrochemical Society,1955,102(05):207-214. |
| [5] | 巩运兰,董向红,高俊丽,郭鹤桐.铝在铬酸中高电压阳极氧化的研究[J].电镀与精饰,1999(01):5-7. |
| [6] | 张允诚;胡如南;向荣.电镀手册[M].北京:国防工业出版社,1997 |
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